二氟化氙(XeF2),又称二氟代氙,分子量为169.30,在电子工业中,XeF2常被用作硅的蚀刻气体,由于XeF2和硅的化学反应是自发反应,XeF2对硅的腐蚀工艺具有非常高的选择性,在XeF2对硅进行腐蚀过程中,XeF2气体通过自由扩散到硅衬底表面,并与最外层硅原子发生化学反应生成气态Xe和气态SiF4,从而实现对硅的腐蚀。产品指标产品用途:在电子工业中,XeF2常被用作硅的蚀刻气体。此外,二氟化氙是一种选择性很好的氟化试剂,在无机氟化物制备及有机合成中有广泛的应用,但其只有在气相和非水溶液中才具有氟化性质,在水溶液中只能起氧化剂的作用。产品贮存:二氟化氙储存于阴凉、通风的库房,应与氧化剂、食用化学品、碱金属分开存放,远离火种、热源。